產品概述：
諾泰高真空PECVD系統是由管式爐，真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。系統主要應用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。PECVD系統增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。
高真空PECVD系統主要特點：
1.通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。
2.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。
3.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。
4.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。
5.廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。
技術參數：
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產品名稱 |
高真空PECVD系統 |
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滑軌管式爐部分 |
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產品型號 |
PT-T1200 |
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爐管尺寸 |
Φ50mmX1600mm |
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爐管材質 |
石英管 |
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加熱區 |
300mm |
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工作溫度 |
1100℃ |
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最高溫度 |
1200℃ |
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溫控方式 |
K型熱電偶 |
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控制方式 |
觸屏控制，帶獨立搖臂，可以根據實際使用需求，調節溫控屏的角度，使用更方便 |
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控溫精度 |
±1℃ |
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溫控保護 |
具有超溫和斷偶保護功能 |
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升溫速率 |
0-20ºC/min ，建議10ºC/min |
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加熱元件 |
含鉬電阻絲 |
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工作電壓 |
AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制） |
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加熱功率 |
3KW |
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爐膛材料 |
氧化鋁多晶纖維 |
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爐體結構 |
爐體帶滑軌，可實現快速升溫和降溫 |
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法蘭接頭 |
標配配有兩個不銹鋼真空法蘭，已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
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密封系統 |
該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，氣密性好。 |
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殼體 |
不銹鋼殼體 |
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選配 |
輔助降溫風扇 |
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真空系統部分 |
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名稱 |
真空系統 |
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主要參數 |
1.采用進口安捷倫高真空分子泵組，極限真空度可達10-3pa 2.KF25快接，不銹鋼波紋管，手動擋板閥與法蘭，真空泵相連； 3.數字式真空顯示，其測量范圍為5×10-5- 1500mbar，測量精度高高 |
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氣路系統部分 |
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名稱 |
四路質量流量計 |
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主要參數 |
四通道精密質量流量計：觸屏控制，數字顯示，自動控制。流量范圍流量范圍： 1.MFC 1-MFC4：0-1000sccm可調 2.一個混氣罐 3.4個不銹鋼針閥安裝在供氣系統的左側，可手動控制4種氣體； 4.進出氣口：3進1出 流量控制：手動旋轉式調節 連接方式：雙卡套連接 |
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等離子電源部分 |
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名稱 |
500W等離子電源 |
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功率范圍 |
0-500W（連續可調） |
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工作頻率 |
13.56MHZ+0.005% |
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工作模式 |
連續輸出 |
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射頻輸出阻抗接口 |
N-type,female（50Ω） |
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功率穩定度 |
≤2W |
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最大反射功率 |
70W |
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電源保護設置 |
DC過流保護，功放過溫保護，反射功率保護 |
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供電電壓/頻率 |
單相交流（187V-253V）50-60HZ |
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冷卻方式 |
風冷 |
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整機尺寸 |
88X483X550 MM |
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整機重量 |
13.5KG |
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認證 |
ISO認證、CE認證 |
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售后服務 |
質保一年，終身保修（耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬于質保范圍） |
