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    CVD設備

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    CVD設備

    產品介紹:
    諾泰此CVD設備由蒸發器、混合器和反應器組成。采用氧化鋁纖維耐火材料。設備技術成熟、質量可靠,溫場均勻,結構合理,30段可編程溫控系統,氣路選用液晶屏觸摸界

    產品介紹:
        諾泰此CVD設備由蒸發器、混合器和反應器組成。采用氧化鋁纖維耐火材料。設備技術成熟、質量可靠,溫場均勻,結構合理,30段可編程溫控系統,氣路選用液晶屏觸摸界面,使得操作異常簡單、方便設備的各項技術參數。
     
    應用范圍:
        廣泛應用于半導體工業中,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料等的鍍膜,該設備可在目標材料表面形成密集的HfCl4涂層.適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環??茖W等領域。
     
    產品參數:
     

    產品名稱 CVD設備
    產品型號 PT-T1600-CVD
    第一部分: 定制坩堝爐(蒸發系統)
    使用溫度 超過500℃
    工作區尺寸 Φ150 x H320mm(不銹鋼內膽的有效尺寸)
    坩堝 310S不銹鋼,形式及具體要求與客戶確認
    加熱元件 電阻絲
    升溫速率 0-20°C/min
    漏率 20Pa/min
    第二部分:定制小管式爐(混氣系統)
    使用溫度 超過500℃
    工作區尺寸 Φ150 x H200mm(不銹鋼內膽尺寸)
    混氣罐 310S 不銹鋼
    加熱元件 電阻絲
    漏率 20Pa/min
    第三部分  1600度管式爐(反應器)
    最高溫度 1600℃
    長期工作溫度 1500℃
    爐管尺寸 OD100/ID90,加熱區300mm
    爐管材質 高純氧化鋁管
    加熱元件 硅鉬棒
    漏率 20Pa/min
    真空度 抽真空度到-7*10-3Pa
    壓力范圍不超過0.02MPa
    更多參數可根據需求定制

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