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    等離子體增強化學氣相沉積系統

    等離子體增強化學氣相沉積系統

    等離子體增強化學氣相沉積系統

    等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜技術生長的一種系的制備技術。

    產品介紹:
        等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜技術生長的一種系的制備技術。我公司依據實驗要求設計制作該款設備以適應各類薄膜研究的需要。

    主要功能和特點:
    1、采用專業加熱元件,爐膛保溫材料采用多晶纖維材料,保溫性能好,耐用,拉伸強度高,無雜球,純度高,節能效果明顯優于國內纖維材料。
    2、整個爐體采用雙層內膽式結構,中間有氣隙隔離,即使爐膛溫度達到最高點,爐體表面仍然可以安全觸摸無滾燙感覺。
    3、爐膛采用節能材料制作,整機能耗僅僅只有同等傳統電爐的1/3,節能環保。
    4、超溫報警并斷電,漏電保護,操作安全可靠具有多重防護功能。
    5、PECVD管式爐系統由:射頻電源,管式爐加熱區系統,質子流量計供氣系統,真空系統,氣體定量系 統組成。

    產品參數:

     
    產品名稱 PECVD
     
    產品型號 PT-PECVD
    500W 射頻電源
    匹配功率范圍 0-500W+1%可調
    工作頻率 13.56MHZ +- 0.005%
    反射功率 最大200W
    匹配方式 自動
    輸出接口 UHF或N型或7/16(L29)
    冷卻 強制風冷
    電壓頻率 220V 50Hz
    匹配阻抗范圍 實部0-80Ω 虛部-j200~+j200(可根據負載調節阻抗)
    管式加熱系統 
    滑道 帶滑道,可手動滑動爐膛,實現快速升溫或冷卻功能
    加熱區長度 300mm
    爐管尺寸 60mm x1600mm 外徑x長
    爐管材質 高純石英管  (SiO2 ≥ 99.99%)
    工作溫度 ≤1100℃
    溫控系統 智能化30段PID微電腦可編程自動控制
    溫控精度 ±1℃(具有超溫及斷偶報警功能)
    加熱速率 建議0~10℃/min
    加熱元件 電阻絲
    額定電壓 單相220V 50Hz
    可通氣體 氮氣、氬氣等惰性氣體
    測溫元件 熱電偶測溫
    殼體結構 雙層殼體結構帶風冷系統
    真空法蘭 法蘭一端帶1/4”卡套接頭進氣口,60轉KF50快裝法蘭。另一端帶控壓閥,氣動泄壓閥和放氣閥。
    供氣系統 四路精密質子流量計:
    測量精度:±1.5% F.S.
    流量范圍:  0~200 sccm(含10%甲烷的氬氣)
    流量范圍:  0~200 sccm(含10%甲烷的氬氣)
    流量范圍:  0~200 sccm(氬氣)
    流量范圍:  0~500 sccm(含10%甲烷的氬氣)
    通過觸屏來調節氣體流量

     
    真空系統 旋片泵,真空度在空爐冷態可達1pa,
    真空計:進口數顯真空計實時顯示真空度,精度高。
    控壓系統 控壓范圍 -20kpa 到 20kpa (也可按客戶要求設計)
    自動化控制
    15”觸摸屏
    觸摸屏界面集成控制爐子,真空泵,質量流量計以及射頻電源。爐子部分需要先設好溫度時間曲線。集成控制部分可以控制溫度曲線的啟停,真空度,氣體流量,射頻功率和射頻啟停,泄壓閥等。
    標準配件 數顯真空計2個,石英爐塞1對,高密封法蘭1對,氟膠密封圈2對,高溫坩堝鉤1把,拆卸法蘭六角扳手1把,保修卡說明書1份
    備注 法蘭,質量流量計,閥門,管路等用316不銹鋼材質
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