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    滑動式PECVD設備

    滑動式PECVD設備

    滑動式PECVD設備

    滑動式PECVD設備是應用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。

    產品介紹:
        該設備是一款帶有預熱系統的滑動PECVD系統。該系統包含等離子射頻電源,預熱爐,滑動式管式爐,4通道質量流量供氣系統和旋片泵組成??捎糜谏L納米或CVD方法來制作各種薄膜。
    產品用途:
        PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)、石墨烯材料等。是應用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。
    技術參數:
    產品名稱 帶預熱系統滑動式PECVD設備
    滑軌管式爐部分
    產品型號 PT-T1200-S06LC
    爐管尺寸 60*長度1600mm
    可選其他直徑Φ50,80,100,120,150mm
    爐管材質 石英管
    加熱區 雙溫區,每個溫區長度200mm
    工作溫度 1100℃
    最高溫度 1200℃
    溫控方式 K型熱電偶
    控制方式 觸屏控制
    控溫精度 ±1℃
    溫控保護 具有超溫和斷偶保護功能
    升溫速率 0-20ºC/min可調  ,建議10ºC/min
    加熱元件 含鉬電阻絲
    工作電壓 AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定制)
    加熱功率 3KW
    爐膛材料 氧化鋁多晶纖維
    爐體結構 爐體帶滑軌,可實現快速升溫和降溫
    法蘭接頭 標配配有兩個不銹鋼真空法蘭,已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥
    密封系統 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸,氣密性好。
    預熱爐
    主要參數 最高溫度1100度 ,多段程序控溫,可將固體和液體原料放在預熱爐中,氣化后與氣體原料相混合
    真空系統部分
    主要參數 采用機械,可實現爐管內的真空
    氣路系統部分
    名稱 四路質量流量計(量程可選)
    等離子電源部分
    功率范圍 0-500W(連續可調)
    售后服務 質保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質保范圍)
    更多規格可根據客戶需求定制
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